博学学术沙龙（2026年第五十五期）| Potentiality of sputtering as a technology for producing new materials and devic

时间：2026-11-03 15:00

举办地点：B教105

内容：

溅射，尤其是磁控溅射及高功率脉冲磁控溅射，是一种非平衡、低温、可放大且与微电子工艺兼容的薄膜沉积技术。它可沉积金属、合金、陶瓷、多层膜、纳米复合膜和梯度膜，并能通过共溅射、反应溅射和工艺参数调控精确控制成分、化学计量、微观结构与界面，因而在硬质耐磨与防腐涂层、自润滑涂层、光电与能源材料、传感器、微电子器件及生物医学涂层等领域具有广泛应用潜力。其意义在于将材料成分—结构—性能的关联转化为可工程化的沉积窗口，支撑新材料发现与器件集成。当前挑战主要包括沉积速率、靶材利用率、等离子体损伤、工艺重复性和大面积均匀性；未来通过HiPIMS、反应共溅射、组合溅射和卷对卷工艺，有望进一步拓展其在新材料与新型器件制造中的应用边界。

主办单位：

科技处、材料科学与工程学院

主讲人：

Albano Cavaleiro，科英布拉大学终身教授，表面工程领域全球著名专家，前机械学院院长，佩德罗研究院执行主任，机械工艺中心协调员。从事材料表界面研究，发表论文六百余篇，h指数69，主持科研项目五十余项，总金额超五千万欧元。